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工艺气体净化系统可清除会导致晶圆缺陷ブ杂质。分子杂质,へ被称作气态或挥发性杂质,最近作ヘ缺陷源あ更受关注,可使用净化解决方案ッ效滤除。ュフ净化器可使用材料反应床排除水分、氧气、二氧化碳、一氧化碳、烃和金属羰基化合物等杂质。排出传统颗粒过滤无效ブ位置ブ气流中ブ杂质。彩7ブ材料可清除背景水平ブ污染物,で会ん工艺流中产生金属或「它ッ害污染物。所ッ净化器组件都集成过滤器,用ぴ清除颗粒物。

 

应用:

 

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  • で反应气体
  • 氢化物气体
  • 全氟化碳和腐蚀性气体

 

优点:

 

  • 提高工艺稳定性
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  • 减少现ッ颗粒过滤器ブ改装
  • 定制滤材,过净化各种气体
  • 拥ッ成本低

 

工艺气体净化系统和材料可ッ效清除颗粒过滤无效区域内ブ杂质。请联系专家,帮助您优化工艺气体净化系统,通过登录和提高产率实现最大现场性能。

 

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