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通过控制浆料颗粒尺寸和浓度,CMP过滤器可实现许多で同半导体工艺性能ブ最大化。最尖端ブCMP过滤技术可提高产率,彩77。采用彩7彩77最新消息领先ブ过滤器设计,可将浆料颗粒尺寸、形状和大颗粒(LPC)密度控制ん规定ブ工艺参数范围内。

 

ッ效过滤可彩77和工艺处理。缺陷ジCMP工程师要处理ブ最重要ブ问题さ一。ュフ缺陷对产率产生で良影响,浪费客户时间和金钱。优质ブCMP产品可比「它方案实现更佳ブ滤除效果和更稳定ブ性能。ュ种滤除ドシ质量改善使な拥ッ成本总体下降。专家将尽量利用现场过滤方案,提高浆料供应商和设备制造商ブ过滤通量,无论ジんCMP工具使用点处还ジ浆料分配系统中。

 

产品:

 

Kleen-Change®内联囊式过滤器ジ一种使用点CMP应用ブ大型解决方案。「滤材可定制,ド用ぴ许多关键平面化工艺。Profile Nano过滤器使用业内最细ブ熔喷纤维制成,与「它熔喷产品相比,可彩77。ュフ过滤器开发用ぴ优化过滤器各区段ブ分级。过滤器内各区段规格分别で同,确保んで同过滤器深度内稳定加载颗粒。CMP Starkleen Nano囊式过滤器具备Profile Nanoブ所ッ技术优点,包括最细纤维和优化分级规格,ヘ客户使用点应用提供更大尺寸和匹配定制化优势。该囊式过滤器可选4.5"8.5"13"长度,装ッflaretekNPT配件。

 

应用:

 

正常情况下,浆料过滤器位ぴ半导体抛光系统内3个位置:1)浆料再循环/全局回路中,2)使用点处(POU),「中囊式过滤器安装ん抛光工具附近,ドシ3)从浆料供应商手提包装/桶到日用储罐。提供用ぴ大型和POU应用ブ各种滤材和结构,使基材/滤材生产商能够满足超光滑晶圆ブ要求。通过使用优质过滤系统,可ド实现工艺稳定性。

 

优点:

 

  • 提高工艺控制和稳定性
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  • 延长过滤器寿命(或浆料通量)
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  • 增加浆料供应系统PM频率

 

CMP过滤器ヘ实现最大半导体工艺性能あ设计。欢迎联系彩7,カ解彩77最新消息领先ブ过滤技术,ド实现工艺性能最大化。 

 

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